纳米压印 NIL胶HighRI-CP5-UV1.8
HighRI-CP5-UV1.8 是纯有机无填料、高折射率 n=1.808 的紫外固化光刻胶，专为紫外纳米压印设计，高透明、低散射，广泛用于纳米光学、光子晶体、光波导、AR/VR 光栅与光电器件制造。
核心应用场景
1、紫外纳米压印光刻（UV-NIL）（核心） 许总：15220133370
纳米光栅、光子晶体、超表面结构
波导、耦合器、谐振腔等高精密光学元件
无纳米填料 → 低散射、高透明、表面更光滑
2、微纳光学元件制造
可见光 / 近红外高折射率光波导
微透镜阵列、衍射光学元件（DOE）
显示 / 成像用纳米结构光学膜
3、光子集成芯片（PIC）
硅光 / 氮化硅光芯片包层、匹配层、耦合结构
折射率匹配（n≈1.8），提升耦合效率
4、AR/VR 光学模组
阵列光波导、衍射光栅、耦合光栅
高折射率提升光效，纯有机低缺陷
5、半导体光电器件
LED/PD 光提取 / 增透 / 耦合结构
无填料、低缺陷、高一致性
6、生物 / 微纳光学芯片
微流控光学检测、传感光栅
高透明、化学稳定、生物友好
7、科研实验室：纳米光学原型
高校 / 研究所做纳米压印、高 RI 光学结构
旋涂简单、固化快、图形精度高
一、产品基本信息
HighRI-CP5-UV1.8是由 HighRI Optics 公司开发的纯有机、无纳米填料紫外固化树脂，面向紫外纳米压印光刻（UV-NIL） 应用。
二、核心性能参数
表格
项目 数值 / 描述
化学类型 丙烯酸酯（Acrylates）
折射率 @590nm 1.808
外观 液态
溶剂 环己酮（Cyclohexanone）
固化方式 紫外光固化
固化条件 365nm，27J/cm2
400nm 透过率 94%（1μm 厚膜）
涂布方式 旋涂（Spin coating）
纳米压印能力 支持（Yes）
三、工艺与使用要点
涂布方式：仅支持旋涂工艺，提供旋涂转速 - 厚度曲线
固化要求：
波长：365nm
能量：27J/cm2
使用注意：
必须冷藏保存
氧气会表面固化，建议惰性环境
成型能力：可实现纳米光栅等高精度结构压印（附 SEM 截面图）
四、光学特性
折射率在可见光区稳定维持~1.8
400nm 处透过率 94%（1μm 膜厚），光学透明度优异
无无机纳米填料，避免散射与缺陷，适合光学元件
4. 关键问题
问题：HighRI-CP5-UV1.8 的核心优势与适用场景是什么？
答案：核心优势是纯有机体系、无纳米填料、高折射率 1.808，专为紫外纳米压印光刻（UV-NIL） 设计，适合制作高精度光学纳米结构。
问题：该材料的标准固化条件是什么，对厚度的透光性如何？
答案：固化条件为365nm 波长、27J/cm2 能量；1μm 厚膜在 400nm 处透过率达 94%，光学透明性优异。
问题：使用 CP5-UV1.8 必须注意哪两个关键事项？
答案：一是需要冷藏保存；二是氧气会表面固化，固化时建议隔绝空气。
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