AZ  6100 系 列 光 刻 胶          许总 1522013337零

高感光度高热稳定性G线正型光刻胶（High Sensitivity & High Heat Stability g-line Positive-tone Photoresist）

广泛应用于大规模集成电路的高感光度高热稳定性G线正型光刻胶

High sensitivity & high heat stability g-line positive-tone photoresist 

for general purpose~semi-critical process

特 征（FEATURES）

1) 通过提高光刻胶的热稳定性，从而改善了干法刻蚀的工艺窗口

2) 高感光度带来了高产出率

3) 很宽的膜厚范围                                                            许总 1522013337零

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘           ：100℃ 60秒 (DHP)

曝光           ：G线步进式曝光机/接触式曝光机

显影           ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle

清洗           ：去离子水30秒

后烘           ：120℃ 120秒 (DHP)

剥离           ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

Product Name： AZ6112      AZ6124    AZ6130

 Viscosity：         13mPa         43mPa       69mPa

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