AZ  DX3200P 系 列 光 刻 胶           许总 1522013337零

应用于通孔图形的KrF正型光刻胶(KrF Excimer Laser Positive-tone Photoresist for Contact Hole)

超高分辨率KrF正型光刻胶，为通孔图形优化

KrF excimer laser positive-tone photoresist,optimized for Contact Hole

pattern

特 征（FEATURES）

1) 工艺窗口大                                          许总 1522013337零

2) 适用于half-tone相移光罩

3) 适用于密集线图形

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘  ：80℃ 60秒 (DHP)           

曝光  ：KrF步进式曝光机

曝光后烘烤  ：110℃ 90秒(DHP)

显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle

清洗 ：去离子水30秒

剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

产品型号(PRODUCT RANGE)

 Product Name:        AZ DX3200P

 Viscosity:                       9cP

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