光电研究所研究液晶面板制造用正胶AZ RFP-210K
发布日期:2026/5/14 11:46:14
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AZ RFP 系 列 光刻胶 许总 1522013337零
应用于液晶面板制造的辊式涂布正型光刻胶(Roll Coat Positive-tone Photoresist
for Flat Panel Display)
该光刻胶特别为辊式涂布而研发,使用安全溶剂PGMEA
This Photoresist has been developed for Roll coating. The solvent is safe with PGMEA
特 征(FEATURES)
1) 由于高感光度实现高产出率 许总 1522013337零
2) 在铬膜和ITO薄膜上实现高附着性
3) 同时实现高附着性和高可去除性
参考工艺条件(SAMPLE PROCESS CONDITIONS)
前烘 :100℃ 90秒(DHP)
曝光 :FPD曝光机
显影 :氢氧化钾1.0wt% 23℃ 60秒
清洗 :去离子水 30秒
后烘 :120℃ 120秒(DHP)和/或15~30分钟(烘箱)
剥离 :AZ剥离液及/或高浓度碱性溶液
产品型号(PRODUCT RANGE)
Product Name: AZ RFP-210K AZ RFP-230K2
Viscosity : 30mPa 30mPa
深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
主要客户群体:三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.
许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294