AZ MIR900 系 列 光 刻 胶          许总 1522013337零

厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶

厚膜，高分辨率高感光度I线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入

工艺和厚金属层蚀刻工艺

1) 在超厚膜工艺上达成高分辨率和高感光度

2) 高对准精度

3) 在8um厚度下可使用2.38%TMAH显影液              许总 1522013337零

Thick-film High Resolution

 i-line Positive-tone Photoresist

 for High-dose Implantation Process

Thick-film,high resolution high sensitivity i-line positive-tone 

photoresist,sui for ultra high dose implantation thick metal 

etching processes

1) High resolution high sensitivity with ultra thick-film process 

2) High alignment accuracy with low proximity dependency

3) TMAH (2.38%)developing with 8.0μm thickness,available

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...

主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.

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