AZ  1500 系列光刻胶           许总 1522013337零

高感光度标准G线正型光刻胶（High Sensitivity Stard g-line Positive-tone Photoresist）

为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度G线正型光刻胶

High sensitivity broad-b,g-line positive-tone photoresist,optimized for wide production of semiconductor

特 征（FEATURES）

1) 高感光度,高产出率

2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进                 许总 1522013337零

3) 广泛应用于全球半导体行业

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘           ：100℃ 60秒 (DHP)

曝光           ：G线步进式曝光机/接触式曝光机

显影           ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle

清洗           ：去离子水30秒

后烘           ：120℃ 120秒 (DHP)

剥离           ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

 Product Name：                         AZ1500

Viscosity：                  4.4mPa 20mPa 38mPa 90mPa     

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...

主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.

许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294