AZ  3100 系 列 光 刻 胶    许总 1522013337零

高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶（High Sensitivity & High Adhesion g/i Cross-over Positive-tone Photoresist）

G线I线通用高感光度高附着性正型光刻胶，特别为G线的关键层优化

 High sensitivity & high adhesion g/i cross-over positive-tone photoresist,optimized especially for critical-layer on g-line

特 征（FEATURES）

1) G线，I 线通用

2) 通过提高光刻胶的热稳定性，从而改善了干法刻蚀的工艺窗口

3) 通过提高光刻胶的附着性，从而改善了湿法刻蚀的工艺窗口

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘           ：100℃ 60秒 (DHP)

曝光           ：G线/I线步进式曝光机                                      许总 1522013337零

显影           ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle

清洗           ：去离子水30秒

后烘           ：120℃ 120秒 (DHP)

剥离           ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

Product Name：                         AZ3100

 Viscosity：                    20mPa                42mPa

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