AZ  MIR-700 系列光刻胶   许总 1522013337零

中高解像度I线正型光刻胶（Medium~High Resolution i-line Positivetone Photoresist）

高感光度I线正型光刻胶，符合ULSI和VLSI制造过程中高感光度高分辨率的要求

AZ MIR700series are high sensitivity i-line positive-tone photoresist 

which correspond to dem of high sensitivity high resolution in 

manufacturing ULSI VLSI

特 征（FEATURES）

 1) 高感光度带来了高产出率            许总 1522013337零

2) 线条与通孔均可应用

3) 推荐与AZ的ARC和RELACS共同使用

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘             ：90℃ 60秒 (DHP)

曝光             ：I线步进式曝光机

曝光后烘烤  ：110℃ 60秒 (DHP)

显影             ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle

清洗             ：去离子水30秒

剥离             ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

产品型号(PRODUCT RANGE)

 Product Name：      AZ MIR-701    AZ MIR-703

 Viscosity：                    14mPa            14mPa

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...

主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.

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