AZ  MIR900 系列光刻胶      许总 1522013337零

厚膜高解像度高感光度I线正型光刻胶(Thick-film High Resolution i-line Positive-tone Photoresist  for High-dose Implantation Process)

厚膜，高分辨率高感光度I线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺

Thick-film,high resolution high sensitivity i-line positive-tone 

photoresist,sui for ultra high dose implantation thick metal 

etching processes

特 征（FEATURES）

1) 在超厚膜工艺上达成高分辨率和高感光度          许总 1522013337零

2) 高对准精度

3) 在8um厚度下可使用2.38%TMAH显影液

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘             ：90℃ 90秒 (DHP)

曝光             ：I线步进式曝光机

曝光后烘烤  ：110℃ 30秒 (DHP)

显影             ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 90秒 Puddle

清洗             ：去离子水30秒

后烘             ：120℃ 120秒(DHP)

剥离             ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

产品型号(PRODUCT RANGE)

Product Name:                AZ MIR-900   AZ MIR-950

 Viscosity:                              46mPa          75mPa

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...

主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.

许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294