AZ  P1350 系 列 光 刻 胶            许总 1522013337零

应用于光罩制造及光媒介原盘制造的旋涂正型光刻胶（ Positive-tone Photoresist for Photo-mask & 

Stamper of Photo-media by Spin Coating）

该光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发，也适用于CD,LD,VCD等光盘的制造

 This resist has been developed for high adhesion process.

 Also sui for manufacturing of Compact Disk,Laser Disk,Video Disk

特 征（FEATURES）

1) 在大尺寸玻璃称底上实现高涂布膜厚均匀性              许总 1522013337零

2) 在铬称底上拥有高附着性

3) 使用安全溶剂PGMEA

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘           ：110℃ 90秒 (DHP)

曝光           ：G线步进式曝光机/接触式曝光系统

显影           ：AZ显影液(1:1) 23℃ 60秒

清洗           ：去离子水30秒

后烘           ：120℃ 120秒以上

剥离           ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

产品型号(PRODUCT RANGE)

Product Name：                    AZ P1350

 Viscosity：                            4.8mPa

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