发布日期：2026/5/19 9:48:24
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AZ 3100 系 列 光 刻 胶
高感光度高附着性G线I线通用正型光刻胶（High Sensitivity & High Adhesion g/i Cross-over Positive-tone Photoresist）
G线I线通用高感光度高附着性正型光刻胶，特别为G线的关键层优化
High sensitivity & high adhesion g/i cross-over positive-tone photoresist,optimized especially for critical-layer on g-line
特 征（FEATURES）
1) G线，I 线通用
2) 通过提高光刻胶的热稳定性，从而改善了干法刻蚀的工艺窗口
3) 通过提高光刻胶的附着性，从而改善了湿法刻蚀的工艺窗口
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：G线/I线步进式曝光机
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去离子水30秒
后烘 ：120℃ 120秒 (DHP)
剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
Product Name： AZ3100
Viscosity： 20mPa 42mPa
深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.
许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294
芯片封装光刻胶_耐氢氟酸光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司
深圳市芯泰科光电有限公司
主营产品：AZ光刻胶、芯片封装光刻胶、耐氢氟酸光刻胶、透明绝缘光阻
深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理 :15220133370 QQ:332767299 0755-28190294深圳市芯泰科光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品技术服务提供商。公司创立于2014年 已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户 以客户满意为导向 提供优质率的专业服务 导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台 提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备 相关设备配件 材料及技术整合服务的专业供应商。力求服务与营运的创新 公司与客户间利益关系 以维持企业永续的竞争优势。
主要产品范围 ：
1、液晶面板(TFT)正型光刻胶
2、触摸屏（Touch Panl）正型光刻胶 超黑矩阵(BM)黑胶 OC光刻胶 卷对卷（Roll to Roll）工艺光刻胶 柔性性路板光刻胶 FPC工艺用正胶
3、倒装(Bumping)工艺光刻胶：适用于电镀铜(ECP)工艺 凸点下金属（UBM）工艺；重布线层（RDL）工艺；影像感测器封装(Copper/Au Piller bump)工艺光
4、LED行业：台阶刻蚀（MESA）工艺正胶 蒸镀（Lift-off）工艺负胶 透明电极（TCL）工艺正胶 电流阻挡层（BCL）工艺正胶 钝化层（PV）工艺正胶 高压芯芯片（HV）工艺正胶。
5、手机盖板行业：3D喷涂曝光型光阻油墨（黑白色） 喷涂曝光纹理光阻油墨 喷涂曝光抗氢氟酸光阻油墨 水性防爆胶 喷涂防爆膜 变色光阻油墨；
6、铜制程工艺：铜制程表面处理剂 铜腐蚀液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液
7、其它配套试剂：高纯低杂质显影液 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液, 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去腊液 洗边剂(EBR) 不伤铝二氧化硅腐蚀液(BOE) 光刻胶稀释剂 氧化铟锡(ITO)腐蚀液 SiO2抛光液 钻石抛光液 SiO2抛光清洗剂（不伤铝）；
8、其它配件：MOCVD外延设备配件（石英配件 钨钼配件 加热器 周边设备配套）；刻蚀机和蒸发台等设备配件；
9、生产制程辅助工具和材料：Tray盘 花篮 膜 针等
