发布日期：2026/5/19 10:01:19
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AZ 底 部 防反射涂层材料
AZ BARLi-II,KrF-BARC,ArF-BARC系列
应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层(Bottom Anti Reflective Coating For Ultra High Resolution Patterning)
在减小称底特别是高反射率称底的反射率，从而提高光刻胶线宽控制方面，AZ的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆
盖了I线/KrF/ArF工艺，另外，它也适用于Via-first的Dual Damascene工艺
AZ BARC materials are essential item to improve the photoresist linewidth-control by reducing the reflection the substrate,especially
high reflective substrate The product ranges are optimized for i-line/KrF/ArF process.Besides,it is
possible to correspond for via first Dual Damascene process
特 征（FEATURES）
1) 对I线/KrF/ArF等高分辨率光刻胶具有很好的亲和性
2) 中性成分组成以及高温交联剂的使用使之具有很大的工艺窗口
3) AZ在底部防反射层和通孔填充材料应用方面有着丰富的经验
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
BARC涂布 ：根据产品不同而有着不同的优化膜厚
BARC前烘 ：180℃以上
光刻胶涂布 ：根据不同光刻胶推荐的条件
光刻胶前烘 ：根据不同光刻胶推荐的条件
曝光：根据不同产品而光刻波长不同
ARC/RELACS
曝光后烘烤 ：根据不同光刻胶推荐的条件
显影：根据不同光刻胶推荐的条件
BARC蚀刻 ：氧等离子体灰化等
金属层蚀刻 ：根据称底不同而选择适合的工艺条件
剥离：氧等离子体灰化等
BARC涂布时推荐使用AZ EBR-7030作为清洗液
产品型号(PRODUCT RANGE)
Product Range: AZ BARLi-Ⅱ AZ KrF-BARC SERIES AZ ArF-BARC SERIES
Product Name: AZ BARLi-Ⅱ-90 AZ BARLi-Ⅱ-50 AZ BARLi-Ⅱ-200 AZ KrF-17B AZ KrF-17G7 AZ KrF-21D AZArF-1C5D
Optimum Exposure: i-line (365nm) KrF (248nm ArF (193nm)
n-value: 1.63 1.46 1.46 1.48 1.57
k-value: 0.31 0.46 0.40 0.51 0.51
Resist Compatibility: All Purpose All Purpose All Purpose Acetal
Filling Property: Conformal Partial filling Full filling Partial filling Conformal
深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.
许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294
专供大学研究所提高光刻胶解析的Non PFOS和Non PFOA的顶部防反射涂层
深圳市芯泰科光电有限公司
产品热线许经理 :15220133370 QQ:332767299 0755-28190294
AQUATAR-Ⅷ系列不含PFOS和PFOA 可溶于水，使用方法与现有的TARC材料相同
适用于各种高分辨率I线/KrF/ArF光刻胶
提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷
水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中
