发布日期：2026/5/19 10:04:42
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AZ CTP-100 系 列 光 刻 胶
应于有机电致发光显示器阴极隔离的负型光刻胶（ Negative-tone Resist for Cathode
Separator on Organic EL Display）
为阴极隔离而研发的负型光刻胶，它可以实现稳定的倒三角轮廓，并
拥有很好的热稳定性和工艺窗口。使用安全溶剂PGMEA
This negative resist has been developed for Cathode Separator which can
make s Anti-Taper-angle has high thermal stability wide
process margin.Besides,it is formulated with safer solvent PGMEA
特 征（FEATURES）
1) 由于高感光度和高残膜率实现高产出率
2) 工艺窗口很宽
3) 物理特性优异，可当作残留材料
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘 ：100℃ 180秒(DHP)
膜厚 ：2.5微米
曝光 ：宽频，接近式曝光机
曝光后烘烤 ：100℃ 90秒
显影 ：AZ300MIF(TMAH2.38% 23℃ 60秒)
清洗 ：去离子水 30秒
后烘 ：240℃ 60秒(烘箱)
产品型号(PRODUCT RANGE)
Product Name： AZ CTP-100K
Viscosity： 27mPa
深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.
许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294
专供大学研究所提高光刻胶解析的顶部防反射涂层AZ AQUATAR系列
深圳市芯泰科光电有限公司
产品热线许经理 :13玖23八66554 扣扣：35捌9123零
应用于超高分辨率图形 加工的顶部防反射涂层,在超高分辨率下，有必要使用AZ AQUATAR系列改善光刻胶线宽， 并降低薄膜干涉造成的驻波效应
适用于各种高解像度I线/KrF/ArF光刻胶
提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷
水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中
