发布日期：2026/5/19 10:09:18
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AZ DX3200P 系 列 光 刻 胶
应用于通孔图形的KrF正型光刻胶(KrF Excimer Laser Positive-tone Photoresist for Contact Hole)
超高分辨率KrF正型光刻胶，为通孔图形优化
KrF excimer laser positive-tone photoresist,optimized for Contact Hole
pattern
特 征（FEATURES）
1) 工艺窗口大
2) 适用于half-tone相移光罩
3) 适用于密集线图形
参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）
前烘 ：80℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：KrF步进式曝光机
曝光后烘烤 ：110℃ 90秒(DHP)
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去离子水30秒
剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
产品型号(PRODUCT RANGE)
Product Name: AZ DX3200P
Viscosity: 9cP
深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...
主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.
许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294
应用于超高分辨率图形 加工的顶部防反射涂层AZ AQUATAR系列
深圳市芯泰科光电有限公司
产品热线许经理 :15220133370 QQ:332767299 0755-28190294
应用于超高分辨率图形 加工的顶部防反射涂层,在超高分辨率下，有必要使用AZ AQUATAR系列改善光刻胶线宽， 并降低薄膜干涉造成的驻波效应
适用于各种高解像度I线/KrF/ArF光刻胶
提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷
水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中
