大学研究所专用、耐干法刻蚀、高选择比正胶AZ GXG601
发布日期：2024/11/1 14:01:12
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大学研究所专用、耐干法刻蚀、高选择比正胶AZ GXG601
大学研究所专用、耐干法刻蚀、高选择比正胶AZ GXG601、AZ GXG602
深圳市芯泰科光电有限公司
产品热线许经理 :13玖23八66554 扣扣：35捌9123零
AZ GXR601,AZGXR602广泛应用于硅片和玻璃基板的蚀刻工艺。可用于干法蚀刻，如制备蓝宝石图形化衬底和菲涅尔镜等微微图形。还可用于玻璃基板蚀刻制作微体控制芯片。
