专供光电研究所耐氢氟酸强酸蚀刻正胶专供光电研究所耐氢氟酸强酸蚀刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零推荐一款有效保护结构材料多晶硅多晶硅免受电化学腐蚀的新方法,这种腐蚀通常发生在器件在基溶液中释放时,特别是当器件含有贵金属时。这种腐蚀严重降低了器件的电气和机械性能以及可靠性。在该方
发布日期:2024/11/1 14:01:11
大学研究所专用耐干法刻蚀高选择比正胶大学研究所专用耐干法刻蚀高选择比正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零,广泛应用于硅片和玻璃基板的蚀刻工艺。可用于干法蚀刻,如制备蓝宝石图形化衬底和菲涅尔镜等微微图形。还可用于玻璃基板蚀刻制作微体控制芯片。
发布日期:2024/11/1 14:01:10
研究所专用正负反转胶耐干刻正胶研究所专用正负反转胶耐干刻正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用应用于微流控芯片传感器,纳米机械热解碳谐振器等研发制作
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大学研究所文专用正胶大学研究所和生产应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零产用适用于合和生产应用,也适用于开发化学纳米传感器,可穿戴微加速度计传感器和石墨烯场效应晶体管的器件等研发
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大学研究所超高剂量离子注入应用正胶大学研究所超高剂量离子注入应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零厚膜,高分辨率高感光度线正型光刻胶,适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺
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