- 研究所耐高温蒸镀反转光刻胶负胶AZ 5200NJ
系列光刻胶许总零应用于工艺图形反转正负可转换型光刻胶高解像度图形反转正负可改变型光刻胶，特别为工艺优化,特征适用于高分辨率工艺工艺适用于正负图形许总零很宽的膜厚范围参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机反转烘烤秒去离子水秒全面曝光在曝光光源下全面照射显影秒秒秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液
发布日期：2026/5/14 16:42:19 - 研究所开发耐高温蒸镀底切形状负胶AZ 5218E
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发布日期：2026/5/14 16:42:02 - 大学耐高温蒸镀底切形状负胶AZ 5214E
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发布日期：2026/5/14 16:41:45 - 研究所耐高温蒸镀反转光刻胶负胶AZ 5206E
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发布日期：2026/5/14 16:41:28 - 光电所Lift-off工艺图形反转正/负可转换AZ5200E
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发布日期：2026/5/14 16:41:09 - 研究所专用高感光度高附着干法蚀刻G线I线通用正胶AZ3100
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发布日期：2026/5/14 16:38:41 - 河北省衡水市冀州市LED销售热线
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发布日期：2026/5/14 16:38:37 - 研究所专用高感光度高附着湿法蚀刻G线I线通用正胶AZ3100
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发布日期：2026/5/14 16:38:24 - 江西省赣州市定南县半导体产品咨询2026年特别推荐
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发布日期：2026/5/14 16:33:38 - 大学开发高感光度干法蚀刻TGV工艺正胶AZ 1500
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发布日期：2026/5/14 16:33:23