深圳市芯泰科光电有限公司
更多>>
更多>>
新闻中心
  • 大学研究所、超高剂量、离子注入应用正胶AZMIR-900

    大学研究所超高剂量离子注入应用正胶大学研究所超高剂量离子注入应用正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零厚膜,高分辨率高感光度线正型光刻胶,适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺

    发布日期:2024/11/1 14:01:12

  • 通孔图形高分辨率、KrF正胶AZ DX3200P

    通孔图形高分辨率正胶应用于通孔图形高分辨率的正性光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶,为通孔图形优化,工艺窗口大,适用于相移光罩,适用于密集线图形

    发布日期:2024/11/1 14:01:12

  • 光机电所用、通孔图形高分辨率、KrF正胶AZ DX5200P

    光机电所用通孔图形高分辨率正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶,为沟槽及通孔图形优化应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶,适用于光罩和普通光罩,适用于各种衬底

    发布日期:2024/11/1 14:01:12

  • 应用于沟槽、通孔图形、KrF正胶AZ DX254

    应用于沟槽通孔图形正胶应用于沟槽通孔图形正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超高分辨率正型光刻胶,为沟槽及通孔图形优化应用于沟槽及通孔图形的超高分辨率正型光刻胶,适用于光罩和普通光罩,适用于各种衬底

    发布日期:2024/11/1 14:01:12

  • 大学研究所、超厚膜,高对比度、正胶AZ P4620

    大学研究所超厚膜,高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于使用晶圆键合机的晶圆级芯片级封装超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶

    发布日期:2024/11/1 14:01:12

  • 大学研究所、超厚膜,高对比度、正胶 AZ P4903

    大学研究所超厚膜,高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透

    发布日期:2024/11/1 14:01:12

  • 大学研究所、超厚膜,高对比度、正胶 AZ P4903

    大学研究所超厚膜,高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透

    发布日期:2024/11/1 14:01:12

  • 大学研究所、超厚膜,高对比度、正胶AZ P4400

    大学研究所超厚膜,高对比度正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零超厚膜高感光度线标准正型光刻胶,超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及磁头制造,高对比度,高感光度,高附着性,对电镀工艺高耐受性应用于双稳微束制备工艺,小型化衍射干涉测距传感器,光纤通信中集成聚合物微透

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 超厚膜、高分辨率、高纵宽比、I线正胶AZ 10XT

    超厚膜高分辨率高纵宽比线正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生化传感基于粗糙玻璃的热

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 专供大学研究所、超厚膜、I线正胶AZ 10XT

    专供大学研究所超厚膜线正胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于电镀工艺的超厚膜,高分辨率线正型光刻胶,高分辨率,高纵宽比,高附着性,对电镀工艺高耐受性,超厚膜,高分辨率,高纵宽比线正型光刻胶,适用于微电镀工艺开发集成超低体积气动微流体与三维电极网络的片上生化传感基于粗糙玻璃的热电

    发布日期:2024/11/1 14:01:11