- 光电研究所开发高感光度湿法蚀刻TGV工艺正胶AZ 1500
系列光刻胶许总零高感光度标准线正型光刻胶为广泛应用于半导体制造领域而优化的高感光度线正型光刻胶,,特征高感光度,高产出率高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进许总零广泛应用于全球半导体行业参考工艺条件前烘秒曝光线步进式曝光机接触式曝光机显影秒清洗去离子水秒后烘秒剥离剥离液及或氧等离子体灰化深圳市芯泰科光电
发布日期：2026/5/14 16:33:08 - 光电所用于电镀超厚膜，高分辨率正胶AZ10XT(520cP)
系列光刻胶许总零应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率线正型光刻胶超厚膜，高分辨率，高纵宽比线正型光刻胶，适用于微电镀工艺特征许总零高分辨率，高纵宽比高附着性，对电镀工艺高耐受性多种粘度可供选择参考工艺条件前烘秒以上曝光线步进式曝光机接触式曝光系统许总零显影显影液秒显影液秒清洗去离子水后烘秒以上剥离剥离液
发布日期：2026/5/14 16:29:58 - 研究所用于电镀超厚膜，高分辨率正胶AZ10XT(220cP)
系列光刻胶许总零应用于电镀工艺的超厚膜，高分辨率线正型光刻胶超厚膜，高分辨率，高纵宽比线正型光刻胶，适用于微电镀工艺特征许总零高分辨率，高纵宽比高附着性，对电镀工艺高耐受性多种粘度可供选择参考工艺条件前烘秒以上曝光线步进式曝光机接触式曝光系统许总零显影显影液秒显影液秒清洗去离子水后烘秒以上剥离剥离液
发布日期：2026/5/14 16:29:38 - 湖南省株洲市攸县微电子材料产品热线
深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理司是一家服务于半导体和光电子行业的产品技术服务提供商。公司创立于年已成为国内半导体光电子行业相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴公司秉持以忠诚态度对待新旧客户以客户满意为导向提供优质率的专业服务导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台提供产品行销及技术支援解决方案。
发布日期：2026/5/14 16:29:18 - 大学研究所开发厚膜高解晰度高感光度正胶AZ MIR-950
系列光刻胶许总零厚膜高解像度高感光度线正型光刻胶厚膜，高分辨率高感光度线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺在超厚膜工艺上达成高分辨率和高感光度高对准精度在厚度下可使用显影液许总零,,,深圳市芯泰科光电有限公司光电材料微电子材料电子元器件半导体产品主要客户群体三安光电中国中材中谷
发布日期：2026/5/14 16:25:53 - 安徽省马鞍山市和县半导体产品产品热线
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发布日期：2026/5/14 16:25:48 - 光电研究所开发厚膜高解晰度高感光度正胶AZ MIR-900
系列光刻胶许总零厚膜高解像度高感光度线正型光刻胶厚膜，高分辨率高感光度线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺在超厚膜工艺上达成高分辨率和高感光度高对准精度在厚度下可使用显影液许总零,,,深圳市芯泰科光电有限公司光电材料微电子材料电子元器件半导体产品主要客户群体三安光电中国中材中谷
发布日期：2026/5/14 16:25:35 - 大学研究所开发TAB制造和柔性衬底工艺的AZ 8100DB5
应用于制造和柔性衬底工艺的系列光刻胶正型光刻胶许总零高附着性和高柔软度，最适用于在柔性衬底工艺上高感光度，高产出率该光刻胶有着很好的分辨率和热稳定性，从而实现很窄的线宽前烘分钟烘箱曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘分钟烘箱许总零剥离剥离液应用于制造和柔性衬底工艺的正型光刻
发布日期：2026/5/14 16:21:19 - 光电研究所开发TAB制造和柔性衬底工艺的AZ 8112
应用于制造和柔性衬底工艺的系列光刻胶正型光刻胶许总零高附着性和高柔软度，最适用于在柔性衬底工艺上高感光度，高产出率该光刻胶有着很好的分辨率和热稳定性，从而实现很窄的线宽前烘分钟烘箱曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘分钟烘箱许总零剥离剥离液应用于制造和柔性衬底工艺的正型光刻
发布日期：2026/5/14 16:21:03 - 江西省宜春市丰城市光电材料咨询电话
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发布日期：2026/5/14 16:20:46