- 光电研究所开发厚膜高解晰度高感光度正胶AZ MIR-900
系列光刻胶许总零厚膜高解像度高感光度线正型光刻胶厚膜，高分辨率高感光度线正型光刻胶，适用于超高剂量离子注入工艺和厚金属层蚀刻工艺在超厚膜工艺上达成高分辨率和高感光度高对准精度在厚度下可使用显影液许总零,,,深圳市芯泰科光电有限公司光电材料微电子材料电子元器件半导体产品主要客户群体三安光电中国中材中谷
发布日期：2026/5/14 16:25:35 - 大学研究所开发TAB制造和柔性衬底工艺的AZ 8100DB5
应用于制造和柔性衬底工艺的系列光刻胶正型光刻胶许总零高附着性和高柔软度，最适用于在柔性衬底工艺上高感光度，高产出率该光刻胶有着很好的分辨率和热稳定性，从而实现很窄的线宽前烘分钟烘箱曝光线步进式曝光机接触式曝光系统显影显影液秒清洗去离子水秒后烘分钟烘箱许总零剥离剥离液应用于制造和柔性衬底工艺的正型光刻
发布日期：2026/5/14 16:21:19 - 光电研究所开发TAB制造和柔性衬底工艺的AZ 8112
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发布日期：2026/5/14 16:21:03 - 江西省宜春市丰城市光电材料咨询电话
深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理司是一家服务于半导体和光电子行业的产品技术服务提供商。公司创立于年已成为国内半导体光电子行业相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴公司秉持以忠诚态度对待新旧客户以客户满意为导向提供优质率的专业服务导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台提供产品行销及技术支援解决方案。
发布日期：2026/5/14 16:20:46 - 广西壮族自治区柳州市柳城县光电材料销售热线
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发布日期：2026/5/14 16:17:17 - 研究所开发顶部防反射涂层AZ AQUATAR-Ⅵ
顶部防反射涂层材料系列许总零应用于超高分辨率图形加工的顶部防反射涂层在超高分辨率下，有必要使用系列改善光刻胶线宽，并降低薄膜干涉造成的驻波效应特征适用于各种高解像度线光刻胶提高了光刻胶表面的亲水性，有效地减少了显影引起的缺陷许总零水溶性溶液，因此适于加入现有的工艺中参考工艺条件条件涂布光刻胶前烘涂布
发布日期：2026/5/14 16:16:54 - 大学开发 顶部防反射涂层AZ AQUATAR-Ⅲ-45
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发布日期：2026/5/14 16:16:37 - 光电所开发顶部防反射涂层AZ AQUATAR-45
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发布日期：2026/5/14 16:16:19 - 研究所开发顶部防反射涂层AZ AQUATAR
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发布日期：2026/5/14 16:16:00 - 辽宁省铁岭市西丰县LED价格2026年特别推荐
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发布日期：2026/5/14 16:13:38