深圳市芯泰科光电有限公司
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  • 底部防反射涂层AZ BARLi-II系列

    底部防反射涂层系列深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层在减小称底特别是高反射率称底的反射率,从而提高光刻胶线宽控制方面,的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆盖了线工艺,另外,它也适用于的工艺对线等高分辨率光刻胶具有很好的亲和性中性成

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 如何提高光刻解析、用底部防反射涂层AZ BARLi-II

    如何提高光刻解析用底部防反射涂层深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零应用于超高分辨率图形加工的底部防反射涂层在减小称底特别是高反射率称底的反射率,从而提高光刻胶线宽控制方面,的底部防反射涂层材料是一种必需的手段。该产品范围覆盖了线工艺,另外,它也适用于的工艺对线等高分辨率光刻胶具有很好

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 应用于超高分辨率图形加工的、光刻胶收缩材料AZ R200

    应用于超高分辨率图形加工的光刻胶收缩材料深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零涂布材料这是一种十分简单的工艺,通过涂布该材料和热处理之后在光刻胶涂层内侧形成硬化层,从而获得小于微米的通孔尺寸或沟槽线宽的微细图形可溶于溶剂型使用显影液可溶于纯水型使用去离子水显影与清边在标准光刻工艺无法处理

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 专供大学研究所、收缩尺寸的光刻胶AZ R200

    专供大学研究所收缩尺寸的光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零涂布材料这是一种十分简单的工艺,通过涂布该材料和热处理之后在光刻胶涂层内侧形成硬化层,从而获得小于微米的通孔尺寸或沟槽线宽的微细图形可溶于溶剂型使用显影液可溶于纯水型使用去离子水显影与清边在标准光刻工艺无法处理的领域达到

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 应用于TAB制造的AZ 8100 系 列 光 刻 胶

    应用于制造的系列光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零该光刻胶有着高附着性和高柔软度,最适用于在柔性衬底上实现高精度图形加工。使用安全溶剂高附着性和高柔软度,最适用于在柔性衬底工艺上高感光度,高产出率该光刻胶有着很好的分辨率和热稳定性,从而实现很窄的线宽

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 大学研究所专用、柔性衬底工艺 AZ 8100 系 列

    大学研究所专用柔性衬底工艺系列深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零该光刻胶有着高附着性和高柔软度,最适用于在柔性衬底上实现高精度图形加工。使用安全溶剂高附着性和高柔软度,最适用于在柔性衬底工艺上高感光度,高产出率该光刻胶有着很好的分辨率和热稳定性,从而实现很窄的线宽

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 应用于光罩制造AZ P1350 系 列 光 刻 胶

    应用于光罩制造系列光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零该光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发,也适用于,,等光盘的制造在大尺寸玻璃称底上实现高涂布膜厚均匀性在铬称底上拥有高附着性使用安全溶剂

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 应用于光罩制造及光媒介原盘制造的AZ P1350 系 列 光 刻 胶

    应用于光罩制造及光媒介原盘制造的系列光刻胶深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零开发一种通过重复片上操作快速优化电泳运行温度的方法该光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发,也适用于,,等光盘的制造在大尺寸玻璃称底上实现高涂布膜厚均匀性在铬称底上拥有高附着性使用安全溶剂

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 专供大学研究所、高附着性的AZ P1350 系 列

    专供大学研究所高附着性的系列深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零开发一种通过重复片上操作快速优化电泳运行温度的方法该光刻胶是为了需要高附着性的工艺而研发,也适用于,,等光盘的制造在大尺寸玻璃称底上实现高涂布膜厚均匀性在铬称底上拥有高附着性使用安全溶剂

    发布日期:2024/11/1 14:01:11

  • 液晶面板制造、旋涂式正胶AZ TFP-300系列

    液晶面板制造旋涂式正胶系列深圳市芯泰科光电有限公司产品热线许经理玖八扣扣捌零为液晶面板制造,特别为彩色滤光片的制造工艺优化,使用安全溶剂在大面积玻璃称底上实现良好的涂布特性在铬膜和薄膜上实现高附着性同时实现高附着性和高可去除性

    发布日期:2024/11/1 14:01:11