应用于TAB制造和柔性衬底工艺的AZ 8100 系 列 光 刻 胶正型光刻胶  

  许总 1522013337零

1) 高附着性和高柔软度，最适用于在柔性衬底工艺上

2) 高感光度，高产出率

3) 该光刻胶有着很好的分辨率和热稳定性，从而实现很窄的线宽

前烘 ：90℃~100℃ 15~30分钟(烘箱)

曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光系统

显影 ：AZ303N显影液(1:4) 23℃ 60秒

清洗 ：去离子水30秒

后烘 ：100℃~120℃ 15~30分钟(烘箱)                    许总 1522013337零

剥离 ：AZ剥离液

应用于TAB制造和柔性衬底工艺

的正型光刻胶

该光刻胶有着高附着性和高柔软度，最适用于在柔性衬底上实现高精

度图形加工。使用安全溶剂PGMEA

Positive-tone Photoresist 

for TAB manufacturing 

process on Flexible Substrate

The most sui for high precision patterning on flexibility 

substrate by high adhesion high flexibility property 

It is formulated with safer PGMEA

1) Sui for process on flexible substrate by high adhesion property 

  high flexibility

2) To achieve high throughput by high sensitivity

3) It is possible for narrow pitch by excellent resolution heat stability

深圳市芯泰科光电有限公司:光电材料、微电子材料、电子元器件、半导体产品、LED...

主要客户群体：三安光电、中国中材、中谷光电、圆融光电、映瑞光电、奥伦德、中图光电、太时芯光、新广联、北方华创、量晶、享通、SINOEPI、华磊、上城、蓝晶、普吉、神光安瑞、迪源、华灿、京晶、蓝光、亁照、汉莱、士兰微北京大学、清华大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中山大学、西安交大、南京大学、深圳大学先进院等大学研究所.

许总 15220133370 QQ:332767299 0755-28190294