AZ  5200E 系列光刻胶                         

许总 1522013337零

应用于Lift-off工艺图形反转正/负可转换型光刻胶（ Image Reversal Pattern Posi/Nega Convertible Photoresist）

高解像度图形反转正/负可改变型光刻胶，特别为lift-off工艺优化

 Image reversal pattern positive/negative-tone photoresist,optimized for lift-off process

特 征（FEATURES）

1) 适用于高分辨率工艺(lift-off工艺)

 2) 适用于正/负图形                                                        许总 1522013337零

3) 很宽的膜厚范围

参考工艺条件（SAMPLE PROCESS CONDITIONS）

前烘           ：100℃ 60秒 (DHP)

曝光           ：I线步进式曝光机/接触式曝光机

反转烘烤     ：110~125℃ 90秒 (DHP):去离子水30秒

全面曝光     ：310~405nm

                   (在曝光光源下全面照射)

显影           ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 30~60秒Puddle

                 ：AZ Developer(1:1)23℃ 60秒Dipping

                 ：AZ400K(1:4)23℃ 60秒Dipping

清洗           ：去离子水30秒

后烘           ：120℃ 120秒 (DHP)

剥离           ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

产品型号(PRODUCT RANGE)

Product Name：            AZ5214E AZ5218E AZ5206E AZ5200NJ

Viscosity：                        7mPa       25mPa     40mPa   85mPa

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